AMAT 0041-75950 Реактор за химическо отлагане на пари

Описание

AMAT 0041-75950 е реактор за химическо отлагане на пари (CVD), проектиран като реактор за нагряване или охлаждане с контролирана температура за отлагане на тънък слой. Използва се за отлагане на конформни и еднакви филми върху различни субстрати. Реакторът се състои от реакционна камера, затворена във вакуумно затворен контейнер, позволяващ прецизен термичен контрол и ефективен трансфер на материала. Това оборудване работи в температурен диапазон от стайна температура до 1000°C, което позволява отлагането на различни тънкослойни материали.

Спецификации

• Модел: 0041-75950
• Производител: Applied Materials (AMAT)
• Тип: Реактор за химическо отлагане на пари (CVD).
• Температурен диапазон: Стайна температура до 1000°C
• Съвместими субстрати: силиций, сапфир, кварц, стъкло
• Материали за отлагане: силициев нитрид, силициев диоксид, алуминиев нитрид и други
• Методи на нагряване: Електронна бомбардировка, индукционно нагряване и други източници

Характеристика

• Камера с контролирана температура: Реакционната камера е проектирана за прецизен термичен контрол, като поддържа функции както за нагряване, така и за охлаждане за оптимално отлагане на филм.
• Система за контрол на газа: Блок за контрол на газ доставя точно количество газ в реакционната камера по време на процеса на отлагане, като гарантира прецизен контрол върху качеството на тънкия филм.
• Източник на отлагане: Източникът на отлагане осигурява контролирано подаване на материал към реакционната камера, където той се отлага върху субстрата.
• Универсални сензори за нагряване: Реакторът е оборудван с нагрявани или охлаждани магнитни сензори, способни да използват различни методи на нагряване, като електронно бомбардиране и индукционно нагряване.
• Съвместимост с множество материали: Реакторът е проектиран да отлага филми върху широка гама от субстрати, включително силиций, сапфир, кварц и стъкло.
• Тънкослойни материали: Може да отлага различни тънки филми като силициев нитрид, силициев диоксид и алуминиев нитрид, което го прави универсален за различни приложения.
• Удобен за потребителя дизайн: Реакторът разполага с интуитивен компютърен интерфейс и предлага както автоматизирани, така и ръчни опции за работа за удобство на потребителя.
• Прецизен контрол: Осигурява точен контрол върху температурата, газовия поток и скоростите на отлагане, което го прави идеален за широк спектър от приложения в полупроводниковата, оптоелектронната и фотомеханичната промишленост.
• Здрав механичен дизайн: Изработен от издръжливи материали и солидна механична конструкция, реакторът осигурява безопасна и надеждна работа.