Описание
AMAT 0010-54703е система за химическа механична планаризация (CMP), произведена от Applied Materials. Моделът е известен като Reflexion LK.
Функции
-
Химическа механична планаризация: Използва се предимно в производството на полупроводници за полиране на метални филми като мед и волфрам върху силициеви пластини.
-
Прецизен контрол на дебелината и качеството на повърхността: Процесът CMP позволява прецизен контрол върху дебелината на филма и постига гладка, равна повърхност, което е от решаващо значение за работата на интегралните схеми.
-
Широко приложение: Устройството се използва широко в производството на различни полупроводникови устройства, включително микропроцесори и чипове памет.
Характеристика
-
Усъвършенствана възможност за полиране: Оборудван с усъвършенствана система за подаване на суспензия, система за кондициониране на подложките и система за контрол на процеса, което позволява ефективно и прецизно полиране.
-
Универсалност: Възможност за обработка както на планарни, така и на шарени вафли, предлагайки висока гъвкавост за различни производствени нужди.
Topbrands PLC Limited is a top supplier of genuine new PLC and DCS parts, serving over 50 countries globally. We offer high-quality products from renowned brands like Bently Nevada, Honeywell, ABB, and more. With our warehouse in China stocking up to 30,000 pieces, we ensure rapid delivery to meet urgent order needs while maintaining competitive pricing to save our customers' budgets. Learn more...
Contact Information