AMAT 0041-75950 Reaktor Deposisi Uap Kimia

Keterangan

AMAT 0041-75950 adalah reaktor Deposisi Uap Kimia (CVD), yang dirancang sebagai reaktor pemanas atau pendingin yang dikontrol suhu untuk deposisi film tipis. Ini digunakan untuk menyimpan film konformal dan seragam pada berbagai substrat. Reaktor terdiri dari ruang reaksi yang tertutup dalam wadah tertutup vakum, memungkinkan kontrol termal yang tepat dan transfer material yang efisien. Peralatan ini beroperasi dalam kisaran suhu dari suhu kamar hingga 1000°C, memungkinkan pengendapan berbagai bahan film tipis.

Spesifikasi

• Model: 0041-75950
• Produsen: Bahan Terapan (AMAT)
• Jenis: Reaktor Deposisi Uap Kimia (CVD).
• Kisaran Suhu: Suhu ruangan hingga 1000°C
• Substrat yang Kompatibel: Silikon, safir, kuarsa, kaca
• Bahan Deposisi: Silikon nitrida, silikon dioksida, aluminium nitrida, dan banyak lagi
• Metode Pemanasan: Pemboman elektron, pemanasan induksi, dan sumber lainnya

Fitur

• Ruang Terkendali Suhu:Ruang reaksi dirancang untuk kontrol termal yang presisi, mendukung fungsi pemanasan dan pendinginan untuk deposisi film yang optimal.
• Sistem Kontrol Gas: Unit kontrol gas mengirimkan jumlah gas yang akurat ke ruang reaksi selama proses pengendapan, memastikan kontrol yang tepat terhadap kualitas film tipis.
• Sumber Deposisi:Sumber deposisi memberikan pasokan material yang terkontrol ke ruang reaksi, tempat material tersebut diendapkan ke substrat.
• Sensor Pemanas Serbaguna: Reaktor dilengkapi dengan sensor magnetik yang dipanaskan atau didinginkan, yang mampu menggunakan berbagai metode pemanasan seperti pemboman elektron dan pemanasan induksi.
• Kompatibilitas Berbagai Bahan: Reaktor dirancang untuk menyimpan film pada berbagai substrat, termasuk silikon, safir, kuarsa, dan kaca.
• Bahan Film Tipis: Dapat menyimpan berbagai film tipis seperti silikon nitrida, silikon dioksida, dan aluminium nitrida, sehingga serbaguna untuk berbagai aplikasi.
• Desain Ramah Pengguna: Reaktor ini memiliki antarmuka komputer yang intuitif dan menawarkan opsi pengoperasian otomatis dan manual untuk kenyamanan pengguna.
• Kontrol yang Tepat: Memberikan kontrol yang akurat terhadap suhu, aliran gas, dan laju pengendapan, menjadikannya ideal untuk berbagai aplikasi di industri semikonduktor, optoelektronik, dan fotomekanis.
• Desain Mekanis yang Kuat: Dibuat dengan bahan yang tahan lama dan desain mekanis yang kokoh, reaktor memastikan pengoperasian yang aman dan andal.